Description

The system is widely used for various CVD experimental reaction temperature at 1100 ℃, can also be used for: vacuum sintering, vacuum protective atmosphere sintering, nanomaterials preparation, battery materials preparation and other research fields

Main components:

 1. The MiNi type tubular furnace; 

2. Three road float gas ratio;

3. Vacuum pump;

 4. The thick wall silicone tube vacuum piping

technical parameters

Champer type:Open type

Display mode :Touch screen

Limiting temperature:1200℃

Working temperature:≤1150℃

Heating rate:≤20℃(suggestion:10℃/min)

Heating zone:Single

Heating zone length:220mm

Constant temperature district:110mm

Furnace tube material:High purity quartz

Routine furnace tube diameter:50mm

:60mm

The furnace tube length:700mm

Packing type:Stainless steel vacuum flange

Gas tightness:Vacuum flange and corundum furnace tube up to4.03×10-3Pa

Control mode:PID Temperature control

Temperature control accuracy:±1℃

Temperature measurer:K-Thermocouple 

Electrical certification:CE

Power supply:220V 50Hz～60Hz

Total power:2.5KW

Gas channels:Three kinds of gas source can be attached

The flow meter:Float flowmeter

A road range:10～100ml/min

B road range:16～160ml/min

C road range:25～250ml/min

Pneumatic pressure:-0.1～0.15 MPa

Warranty :12 months warranty, lifetime warranty